華為云計(jì)算 云知識(shí) LiteOS 5.0 五大新特性簡(jiǎn)化端側(cè)設(shè)備開發(fā)和調(diào)測(cè)
LiteOS 5.0 五大新特性簡(jiǎn)化端側(cè)設(shè)備開發(fā)和調(diào)測(cè)

內(nèi)容簡(jiǎn)介:

踩內(nèi)存, 鏡像 文件太大,系統(tǒng)運(yùn)行軌跡追蹤難、資源占用難分析等等問題,對(duì)物聯(lián)網(wǎng)端側(cè)開發(fā)者造成困難,影響開發(fā)效率,LiteOS 5.0五大新特性,即新架構(gòu)、新編譯框架、新輕量級(jí)AI框架、新組件和庫、新開發(fā)和調(diào)試工具,助力開發(fā)者快速開發(fā),本次分享將結(jié)合實(shí)際開發(fā)案例,重點(diǎn)剖析使用LiteOS 5.0 新特性解決上述開發(fā)難題。

內(nèi)容大綱:

1. 物聯(lián)網(wǎng)端側(cè)設(shè)備開發(fā)難題。

2. LiteOS 5.0 五大新特性。

3. LiteOS Studio開發(fā)和調(diào)測(cè)工具。

4. LiteOS 2021開源路標(biāo)。

聽眾收益:

1. 了解LiteOS 5.0 新架構(gòu)、新編譯框架、新組件和庫;

2. 了解LiteOS Studio可視化組件管理,讓開發(fā)更容易;

3. 了解LiteOS Studio開發(fā)調(diào)測(cè)工具:輕量級(jí)內(nèi)存檢測(cè)、鏡像分析工具、可視化Trace等,助力開發(fā)者快速定位問題,解決開發(fā)難題;